供应**溅射镀膜用镍靶
详细描述
生产规格各种规格钛靶 钼靶 钨靶 镍靶 铌靶 锆靶 钽靶
溅射镀膜；蒸发镀膜；半导体；集成电路；平面显示器；信息存储；OLED;LED;LCD;P**
靶材的主要性能要求:
纯度
纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
